型 號： CY-6090 產品名稱： 半自動雙面曝光機 特 性：600╳900mm大尺寸置板及曝光面積。 4KW採用掃瞄式光源90％以上光均勻度適合乾膜曝光。 8KW與10KW高功率光源適用濕膜曝光。 分離式空調系統減低噪因與體積大小。 曝光數據記憶適應不同工作條件。 上下燈源獨立光源積量器確保曝光濃度一致。 故障偵澈系統確保安全操作。